2月1日消息，据国外媒体报道称，ASML已经确认，即将出货最新款的EUV光刻机EXE:5200，相比上代来说，表现更加强悍，当然不会卖给中国厂商。按照官方的说法，EXE:5200是现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进款，其将拥有更高的晶圆吞吐量（EXE:5000为每小时185...

1月27日消息，最近有关ASML阿斯麦放松对华光刻机销售的说法甚嚣尘上，不过荷兰政府显然那没那么善良，依然会唯美国马首是瞻。据报道，荷兰首相斯霍夫（Dick Schoof）在出席世界经济论坛2025年年会期间明确表示，关于ASML对华出口问题，荷兰政府希望自行决定具体政策，但美国政府给他们施加了极...

据新华社近日报道，荷兰首相斯霍夫（Dick Schoof）在出席世界经济论坛 2025 年年会期间表示，在荷兰光刻机巨头 ASML 对华出口产品的问题上，荷兰政府希望自行决定实施什么样的政策，而美国拜登政府就限制阿斯麦对华出口先进芯片制造设备向荷兰政府施加了相当大的压力，预计特朗普政府将延续这一策略...

近日，一名具有俄罗斯背景的ASML前员工因涉嫌窃取ASML和Mapper Lithography 的微芯片手册等文件而被荷兰政府拘留，引发各方关注。这位工程师曾是电子束光刻设备厂商Mapper的员工，后来这家公司被ASML收购，于是包括该工程师在内很多员工也就成为了ASML的员工，Mapper公司...

12月3日消息，光刻设备制造商ASML近日在其官网纪念品商城推出了一款特别的产品——High NA EUV光刻系统TWINSCAN EXE:5000的乐高模型套装。该模型的定价为227.95美元，约合人民币1653元。这款乐高模型由ASML的员工兼乐高爱好者Rick Lenssen设计，包含8...

2024年9月26日，佳能公司宣布，已于9月26日向总部位于美国德克萨斯州的半导体联盟——德克萨斯电子研究所 （TIE） 运送其最先进的纳米压印光刻 （NIL） 系统FPA-1200NZ2C 。在2023年10月13日，佳能正式发布了全球首款NIL系统FPA-1200NZ2C，成为了全球首个将采用...

8月6日消息，在近日的财报电话会议上，Intel CEO宣布已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV（极紫外光刻机）。High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一，其分辨率达到8纳米，能够显著提升芯片的晶体管密度和性能，是实现2nm以下先进制程大规模量产的...

7月22日消息，据合肥发布官微发文，由晶合集成生产的安徽省首片半导体光刻掩模版成功亮相，不仅填补了安徽省在该领域的空白，进一步提升本土半导体产业的竞争力。据悉，掩模版是连通芯片设计和制造的纽带，用于承载设计图形，通过光线透射将设计图形转移到光刻胶上，是光刻工艺中不可或缺的部件。晶合集成凭借其在高...

6月16日消息，ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机，预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右，也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻机孔径数值只有0.33，对应产品命名NXE系列，包括已有的...

6月6日消息，据外媒报道称，ASML将在今年向台积电交付旗下最先进的光刻机，单台造价达3.8亿美元。报道中提到，ASML首席财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议上告诉分析师，公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高数值孔径（高NA）极紫外（EUV）光刻系统。英特尔此前已...