近日，一名具有俄罗斯背景的ASML前员工因涉嫌窃取ASML和Mapper Lithography 的微芯片手册等文件而被荷兰政府拘留，引发各方关注。这位工程师曾是电子束光刻设备厂商Mapper的员工，后来这家公司被ASML收购，于是包括该工程师在内很多员工也就成为了ASML的员工，Mapper公司...

12月3日消息，光刻设备制造商ASML近日在其官网纪念品商城推出了一款特别的产品——High NA EUV光刻系统TWINSCAN EXE:5000的乐高模型套装。该模型的定价为227.95美元，约合人民币1653元。这款乐高模型由ASML的员工兼乐高爱好者Rick Lenssen设计，包含8...

2024年9月26日，佳能公司宣布，已于9月26日向总部位于美国德克萨斯州的半导体联盟——德克萨斯电子研究所 （TIE） 运送其最先进的纳米压印光刻 （NIL） 系统FPA-1200NZ2C 。在2023年10月13日，佳能正式发布了全球首款NIL系统FPA-1200NZ2C，成为了全球首个将采用...

8月6日消息，在近日的财报电话会议上，Intel CEO宣布已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV（极紫外光刻机）。High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一，其分辨率达到8纳米，能够显著提升芯片的晶体管密度和性能，是实现2nm以下先进制程大规模量产的...

7月22日消息，据合肥发布官微发文，由晶合集成生产的安徽省首片半导体光刻掩模版成功亮相，不仅填补了安徽省在该领域的空白，进一步提升本土半导体产业的竞争力。据悉，掩模版是连通芯片设计和制造的纽带，用于承载设计图形，通过光线透射将设计图形转移到光刻胶上，是光刻工艺中不可或缺的部件。晶合集成凭借其在高...

6月16日消息，ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机，预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右，也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻机孔径数值只有0.33，对应产品命名NXE系列，包括已有的...

6月6日消息，据外媒报道称，ASML将在今年向台积电交付旗下最先进的光刻机，单台造价达3.8亿美元。报道中提到，ASML首席财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议上告诉分析师，公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高数值孔径（高NA）极紫外（EUV）光刻系统。英特尔此前已...

5月28日，受国家集成电路产业投资资金三期股份有限公司（简称“大基金三期” ）成立消息提振，A股半导体、芯片股票纷纷上涨。截至午盘，Wind芯片指数涨幅为1.37%，半导体指数涨幅为1.57%。据国家企业信用信息公示系统显示，5月24日，大基金三期成立，法定代表人为张新，注册资本3440亿元人民币。...

5月22日消息，据外媒报道称，ASML声称可以远程瘫痪旗下售出的光刻机，这引来网友的围观。现在，报道中有给出了更多有趣的细节，比如ASML表示可以远程瘫痪（remotely disable）相应机器，包括最先进的极紫外光刻机（EUV）。消息人士称，EUV需要频繁维护，如果没有ASML提供的备件，...

4月19日消息，今天芯片巨头英特尔宣布，已开始组装阿斯麦（ASML）的高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻机，并称这是其超越竞争对手的重要一步。去年12月，阿斯麦确认向英特尔交付首台高数值孔径极紫外光刻系统，这台机器的售价高达3.5亿欧元（约合27亿元人民币）。英特尔光刻主管马克菲...