挑战ASML！这家美企要用X射线造芯：成本降低90% 当地时间10月28日，美国新创光刻设备厂商Substrate宣布，他们已开发出一款全新的光刻机，有能力与全球光刻机龙头大厂——荷兰ASML最先进的每台售价接近4亿美元的High NA EUV光刻机竞争。 据介绍，Substrate所开发的是使用X射线作为光源的光刻机，该光源利用粒子加速器产生，波长比...
中国光刻胶领域取得新突破！首次合成分辨率优于5nm的微观三维“全景照片” 10月26日消息，我国光刻胶领域取得新突破！ 据科技日报报道，近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然通讯》。 光...
为了14A工艺拼了！Intel加码订购ASML High-NA EUV光刻机 9月25日消息，据报道，Intel正在加码采购ASML的High-NA EUV光刻机，计划购买两台相关设备，这一数量较之前计划的单台设备翻了一番。 ASML的High-NA EUV光刻机不仅价格高昂，更能够实现更高的分辨率和更精细的芯片制造关键，是未来高端芯片制造的关键。 目前，全球仅有少数几家公司...
AI产业太诱人！佳能时隔21年首度扩建光刻机生产基地 8月5日消息，据媒体报道，佳能（日本）宇都宫市的全新扩建后的光刻机工厂将于9月正式投入运营。 这是自2004年该光刻机工厂落成后，时隔21年的首次扩建。旨在增产光刻设备，借助人工智能（AI）产业的迅猛发展，抢占由全球龙头企业阿斯麦主导的光刻设备市场。 面对全球AI产业催生的半导体需求激增，佳能斥资5...
中国能打造自己的ASML吗：光刻机是否有后门 ASML能否远程关闭我国的光刻机 7月20日消息，近日，日经发表文章称，中国能够打造自己的阿斯麦吗？ 报道称，美西方越是打压封锁，越会倒逼中国加快自主创新步伐，但不必讳言的是，对于希望实现芯片设备100%国产化的中国人来说，攻克光刻技术仍然是一场硬仗。 文章介绍了光刻技术对于芯片最终性能的重要性，并强调了光刻机设备的极高复杂性，也正...
史上最先进！ASML研发新一代Hyper NA EUV光刻机：5nm单次曝光 6月29日消息，全球最大半导体设备龙头ASML已着手研发下一代Hyper NA EUV先进光刻机，为未来十年的芯片产业做准备。 Jos Benschop表示，ASML及独家光学合作伙伴蔡司（Carl Zeiss）正在研究可在单次曝光中印刷出分辨率精细到5nm的EUV光刻机，可满足2035年之后的制程...
