中国能打造自己的ASML吗：光刻机是否有后门 ASML能否远程关闭我国的光刻机 7月20日消息，近日，日经发表文章称，中国能够打造自己的阿斯麦吗？ 报道称，美西方越是打压封锁，越会倒逼中国加快自主创新步伐，但不必讳言的是，对于希望实现芯片设备100%国产化的中国人来说，攻克光刻技术仍然是一场硬仗。 文章介绍了光刻技术对于芯片最终性能的重要性，并强调了光刻机设备的极高复杂性，也正...
史上最先进！ASML研发新一代Hyper NA EUV光刻机：5nm单次曝光 6月29日消息，全球最大半导体设备龙头ASML已着手研发下一代Hyper NA EUV先进光刻机，为未来十年的芯片产业做准备。 Jos Benschop表示，ASML及独家光学合作伙伴蔡司（Carl Zeiss）正在研究可在单次曝光中印刷出分辨率精细到5nm的EUV光刻机，可满足2035年之后的制程...
