EUV光刻机意想不到的用途！竟能应用于生物医学 12月22日消息，长期以来，EUV光刻技术一直被主要用于打造最强大的逻辑与存储芯片。 不过比利时微电子研究中心（IMEC）近日首次成功利用ASML的EUV光刻设备，在300毫米晶圆上实现了固态纳米孔的晶圆级制造。 这项进展被ASML公关负责人誉为意想不到且出色的生物医学应用。 所谓纳米孔，是直径仅有...
曝中国秘密搞定第一台EUV光刻机！逆向功程ASML 12月19日消息，光刻机，似乎是中国在高科技领域的最后一个拦路虎了！ 据外媒报道，中国一家秘密实验室已经悄然组装出第一台EUV极紫外光刻系统的原型机，是通过逆向工程ASML现有的光刻机产品而来的，正处于秘密测试阶段，计划2028年试产原型芯片。 如果消息属实，无疑是中国的一次飞跃式突破，短短数年就掌...
1.4nm制程！纳米压印技术突破 近日，日本印刷株式会社（DNP）宣布，成功开发出电路线宽仅为10nm的纳米压印（NIL）光刻模板，可用于相当于1.4纳米等级的逻辑半导体电路图形化，可以满足智能手机、数据中心以及NAND闪存等设备中使用的尖端逻辑半导体的微型化需求。 该产品将在 2025 年 12 月 17 日至 19 日在东京国际...
认清事实！阿斯麦对华出口光刻机比最新落后八代 技术差距超10年 12月15日消息，阿斯麦对中国出口的光刻机到底有多落后，按照其CEO的说法，比最新的高数值孔径光刻技术整整落后了八代。 近日，阿斯麦首席执行官克里斯托夫富凯接受采访时表示，目前阿斯麦对华出口的设备，比最新的高数值孔径光刻技术整整落后了八代。 到底有落后，这些出口光刻机的技术水平相当于我们公司2013...
TechInsights：麒麟9030采用中芯国际5nm级工艺 没用EUV光刻 12月12日消息，权威半导体机构TechInsights研究后认为，华为最新发布的麒麟9030系列处理器，已经用上了中芯国际最新的5nm级工艺，官方称之为N+3。 相比于之前的N+2 7nm级工艺，中芯国际实现了一次全新的跨越，并且显然已经投入量产，可以满足华为Mate 80系列等产品的大规模供货需...
挑战ASML！这家美企要用X射线造芯：成本降低90% 当地时间10月28日，美国新创光刻设备厂商Substrate宣布，他们已开发出一款全新的光刻机，有能力与全球光刻机龙头大厂——荷兰ASML最先进的每台售价接近4亿美元的High NA EUV光刻机竞争。 据介绍，Substrate所开发的是使用X射线作为光源的光刻机，该光源利用粒子加速器产生，波长比...
中国光刻胶领域取得新突破！首次合成分辨率优于5nm的微观三维“全景照片” 10月26日消息，我国光刻胶领域取得新突破！ 据科技日报报道，近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然通讯》。 光...
为了14A工艺拼了！Intel加码订购ASML High-NA EUV光刻机 9月25日消息，据报道，Intel正在加码采购ASML的High-NA EUV光刻机，计划购买两台相关设备，这一数量较之前计划的单台设备翻了一番。 ASML的High-NA EUV光刻机不仅价格高昂，更能够实现更高的分辨率和更精细的芯片制造关键，是未来高端芯片制造的关键。 目前，全球仅有少数几家公司...
AI产业太诱人！佳能时隔21年首度扩建光刻机生产基地 8月5日消息，据媒体报道，佳能（日本）宇都宫市的全新扩建后的光刻机工厂将于9月正式投入运营。 这是自2004年该光刻机工厂落成后，时隔21年的首次扩建。旨在增产光刻设备，借助人工智能（AI）产业的迅猛发展，抢占由全球龙头企业阿斯麦主导的光刻设备市场。 面对全球AI产业催生的半导体需求激增，佳能斥资5...
中国能打造自己的ASML吗：光刻机是否有后门 ASML能否远程关闭我国的光刻机 7月20日消息，近日，日经发表文章称，中国能够打造自己的阿斯麦吗？ 报道称，美西方越是打压封锁，越会倒逼中国加快自主创新步伐，但不必讳言的是，对于希望实现芯片设备100%国产化的中国人来说，攻克光刻技术仍然是一场硬仗。 文章介绍了光刻技术对于芯片最终性能的重要性，并强调了光刻机设备的极高复杂性，也正...
